Composition photorésistante non corrosive contenant: a) 20 à 70% en poids d'un solvant organique polaire ayant un moment dipolaire de plus de 3.5; b) 70 à 20% en poids de composés d'amine sélectionnées. c) environ 0,01% à environ 1% en poids de résine novolak ayant un poids moléculaire moyen (Mw) d'environ 200 à environ 5,000; d) éventuellement 0 à 10% en poids d'amino-acide sélectionné ayant un groupe hydroxyle; et e) éventuellement 0 à 10% en poids d'eau.