Bain de dépôt électrolytique de platine
| N° de brevet: |
EP0737760 (A1) |
| Date de publication: |
1996-10-16 |
| Inventeur(s): |
KUHN WERNER [DE];ZILSKE WOLFGANG [DE]; |
| Demandeur(s): |
DEGUSSA [DE]; |
| Classification: |
C25D3/50;C25D3/52; |
| N° de demande: |
EP19960102799 19960224 |
| Numéro(s) de priorité: |
DE19951014253 19950415;DE19951047900 19951221 |
On obtient des couches de platine brillantes exemptes de fissures avec une intensité supérieure à 100 micro m, à partir de bains galvaniques, qui contiennent 5 à 30 g/l de platine comme complexe sulfamato d'amine, et 20 à 400 g d'un acide fort, quand la teneur en acide amidosulfurique libre s'élève à moins de 5 g/l.
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