L'invention concerne une composition de résist positif présentant une excellente photosensibilité en décomposition de lumière. La composition comprend : a) un polymère ayant au moins 70 % de structure isotactique, préparé à partir de monomères polymérisables, dont au moins une partie est un monomère (meth) acrylate ayant un groupe choisi dans la classe constituée d'un groupe t-butyle, un groupe benzyle, un groupe alpha-méthylbenzyl, un groupe alpha, alpha-dimethylbenzyle, et un groupe trityle, et b) un photoactivateur qui produit un acide en réponse à un rayonnement lumineux. La présente invention concerne également une composition de résist dans laquelle au lieu du polymère (a), est utilisé un polymère (c) ayant au moins 70 % de structure isotactique et qui est préparé à partir de monomères polymérisables, dont au moins une partie est un styrène hydroxyle choisi dans le groupe constitué de p-tbutoxycarbonyloxystyrene, p-t-butoxycarbonyloxy-alpha-methyl-styrène, t-butyl-p-vinyl benzoate et t-butyl-p-isopropenylphenyloxy acetate.