Le procédé décrit, qui sert à éliminer des revêtements organiques, se révèle très efficace lorsqu'il s'agit d'enlever des films de photoréserve dans un processus de fabrication de dispositifs à semiconducteur.On enlève le film organique en traitant un substrat (32), surt lequel un film de photoréserve (31) est formé, dans un récipient de traitement par voie humide (34) rempli d'un liquide de traitement constitué par exemple par un mélange d'acide sulfurique et d'eau au peroxyde d'hydrogène, ou dans un récipient de traitement à l'ozone (34) rempli d'un liquide qu'on obtient en ajoutant de l'ozone ou de l'eau ozonisée à de l'eau ultrapure après le traitement à sec du substrat au moyen d'un plasma à l'ozone ou à l'oxygène.