L'invention concerne un procédé de réparation de masques par transmission dans lequel après inspection du masque et mise en mémoires des informations (coordonnées) sur les défauts des masques on revêt les masques à réparer avec un photorésist sur toute l'avers de leur surface. On expose une zone déterminée de la couche de photorésist à travers le masque à réparer à l'aide d'un rayonnement lumineux ou non lumineux, pour réticulier de photorésist, la dose de rayonnement nécessaire à la réticulation dépendant du résist utilisé. Dans le cas d'un résist positif, on effectue ensuite une exposition générale. Les zones du résist non exposées ou exposées une seule fois sont développées de façon conventionnelle et ainsi éliminées. Ensuite pour la correction des trous du masque on vaporise de l'or sur la face arrière là ou la zone réticulée de la couche de photorésist sert de sous couche. Ce photorésist après vaporisation de l'or est éliminé par un procédé de gravure au plasma. En raison de la comparaison des coordonnées des défauts des masques mémorisées on expose avec le système d'exposition la zone de la couche de photorésist seulement par les trous du masque et on la réticule, ansi la correction du masque s'effectue dans un temps de l'ordre la milleseconde.