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Dépôt chimique en phase vapeur de films en partant de composés organométalliques
On décrit un procédé pour produire des films minces minéraux par dépôt chimique en phase vapeur d'un composé métallique minéral. Le procédé comprend: la formation d'un courant de vapeur (10) qui se compose d'un mélange de vapeur d'un composé organique hétérocyclique contenant un élément du groupe V ou du groupe VI, et la décomposition thermique du mélange sur un substrat chauffé (13) pour former une couche inorganique. Le composé héterocyclique peut être un cycle aromatique ou aliphatique. Le mélange peut inclure des vapeurs appropriées à la déposition de composés ternaires ou d'ordre supérieur et/ou pour l'introduction de dopants.
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