Résumé de publication : Procédé de dépôt de couches minces sur un substrat (3). Il comporte les étapes connues de création sous l'effet d'une source à ultrasons (5), d'un brouillard de fines gouttelettes à partir d'une solution de la substance à déposer et de transport de ce brouillard sur le substrat éventuellement chauffé. Il se caractérise en ce que l'on polarise électriquement la face active du substrat isolant ou isolé (3) et les gouttelettes du brouillard selon des polarités de sens opposés, à l'aide d'un champ électrostatique continu appliqué entre le brouillard et le substrat.