Procédé pour égaliser l'enlèvement de matière au cours du polissage de plaquettes

N° de brevet: EP0004033 (A1)
Date de publication: 1979-09-19
Inventeur(s): KRAMER HANS CHEM-ING GRAD;KIRSCHNER HELMUTH CHEM-ING GRA;
Demandeur(s): WACKER CHEMITRONIC [DE];
Classification: B24B37/00;B24B37/04;
N° de demande: EP19790100602 19790301 
Numéro(s) de priorité: DE19782809274 19780303 
En raison de l'épaisseur croissante des emballages de circuits de couplage, on est de plus en plus exigeant vis-à-vis de la tolérance d'épaisseur, de la conicité et de l'état de surface des éléments constitutifs. L'objet de l'invention est un procédé amélioré pour le polissage de pastilles de semi-conducteurs (1) sur une polisseuse ordinaire. Selon l'invention, on obtient une égalisation de l'enlèvement de matière du fait qu'entre le poinçon de pressage (3) et la face postérieure des plaques porteuses (2), est disposée une pièce d'écartement (4) sous forme d'un élément élastique mou, tel qu'une feuille alvéolée formant coussin d'air.

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